電子線描画装置
(Electron Beam Lithography System)
| 電子線描画装置は、電子線を収束させレジストを塗布した試料上の任意の位置に露光しサブミクロンオーダーの微細なレジストパターンを形成します。本装置は電子銃エミッタとして、高輝度、高安定なZr/O-Wを用いており電子線は最小5nm径まで収束することが可能です。この装置を用いることで半導体中の量子効果、微小磁性体の物性などを観測するための素子を作成できます。 |
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| SEM,EB描画装置 | 作成したレジストパターン |
